SMEE показала макет новой платформы сухой литографии для производства чипов

Китайский производитель полупроводникового оборудования представил платформу для установок серий SSC800 и SSB800. По заявлению компании, доля китайских компонентов среди ключевых узлов превышает 90%.

Китайская Shanghai Microelectronics Equipment (SMEE), производитель оборудования для выпуска микросхем, показала на девятой Китайской международной выставке импортных товаров в Шанхае макет новой платформы сухой литографии. Как сообщает Shanghai Securities News, экспонат представляет установки SSC800 и SSB800: прозрачные элементы позволяют увидеть внутреннюю компоновку и оптический тракт.

Платформа рассчитана на два направления литографии — KrF для серии SSC800 и I-line для SSB800. По данным компании, обе серии используют собственную платформу с двумя рабочими столами и объективы китайского производства.

SMEE заявляет о контроле над разработкой и поставками ключевых систем: оптики и освещения, позиционирования пластин и масок, автоматической транспортировки материалов, датчиков совмещения и выравнивания. Доля китайских компонентов среди ключевых узлов, по утверждению производителя, превышает 90%.

Отдельно компания сообщила об эксплуатации своих установок на китайских линиях серийного производства логических микросхем и памяти. Суммарно на них обработано более 10 млн пластин, а показатель эффективного времени работы оборудования превышает 92%. Это показатель доступности установок, а не скорости обработки пластин.